第一六五九章 從低端數控系統開始研發

“數控系統的核心技術專利和裝備,別人也不會賣給我們,我們必須自己開發和生產;一般技術專利和裝備,花錢從別的公司購買,節省時間,這也是我們開發數控系統的基本原則。我活學活用,紙上談兵,給大家想想辦

法?”

孫健笑着從隨身攜帶的公文包內拿出記錄本,早有準備,進入數控機牀行業,首先要熟悉數控系統的書本知識。

“數控系統(CNC)根據功能、性能和應用場景的不同,可分爲低端、中端和高端三類,它們的核心差異體現在硬件配置,軟件功能、控制精度、擴展能力以及適用領域等方面。”

“低端數控系統適用小型機牀,用於簡單的加工,比如二維切割或者基礎的車削。硬件上只需要配置低性能的處理器,支持3軸以下。軟件功能也比較基礎,沒有太多高級功能。”

“中端數控系統適用4-5軸機牀,用於三維加工和多軸控制。硬件方面需要配置工業級的低端多核處理器,支持3軸聯動或簡單多軸同步。軟件上要配置高級插補算法軟件,刀具半徑補償、動態誤差修正軟件,支持CAM軟件集

成和圖形化編程界面和簡單的人機界面。”

“高端數控系統適用9軸及以上機牀,用於高精度、高複雜度的加工。硬件方面需要配置高性能多核處理器和FPGA、DSP專用芯片,支持9軸以上,支持5軸聯動及多通道同步加工。軟件方面要配備納米級精度補償軟件、自適

應控制軟件、高級五軸RTCP、智能優化軟件等,不久的將來還要支持物聯網和遠程數據分析。”

“數控系統的硬件部分包括控制單元、伺服驅動、電機、傳感器、操作面板、通信模塊和電源模塊,軟件部分包括操作系統、控制軟件、編程軟件、仿真軟件、補償算法、數據管理和網絡功能。”

“控制單元就是一臺高性能多核CPU;伺服驅動是一種控制系統,通過控制電機的轉速、位置和力矩,實現對負載的精確控制,伺服驅動系統使用反饋機制來監測和調整輸出,以實現精確的控制。”

“我們從低端數控系統開始研發,最後擁有具有自主知識產權的高端數控系統,打破發那科和西門子公司的技術壟斷和封鎖。”

“龔主任,全球最強的CPU生產廠家是哪幾家?”

“董事長,據我所知,是英特爾、AMD和國智。”

龔林眼前一亮,頓時明白了。

“由於193nm波長的世界性光學難題近十年來沒有辦法被攻克,導致全球最先進的光刻機長期停留在90nm製程工藝,英特爾和AMD的新一代CPU也被迫停止開發,給了國智CPU追趕的良機;如今,國智GZ-CX4的綜合性能

已經同Pentium 4和Athlon XP並駕齊驅,相當於高端數控系統的高性能多核CPU已經被解決了,國智半導體研究院研發成功伺服驅動只是時間問題,這樣一來,數控系統硬件中控制單元和伺服驅動就沒有技術瓶頸了。”

孫健面帶微笑,侃侃而談。

JAWA......

桂寧帶頭起身鼓掌,大家都站了起來,會議室響起熱烈的掌聲,困擾江重數控機牀發展的數控系統真的能被孫董事長解決。

副所長張聞橋主持研發的CKX53160數控單柱移動立式銑車牀,安裝Sinumerik82D,這套西門子研發的中端數控系統,售價佔到這臺車牀總成本的近一半。

要是新江重能夠在18個月內,研製成功擁有自主知識產權的中端數控系統,江重的發展將會迎來新的春天。

數控系統的核心是微機數控系統,國智半導體研究院在CUP、主板、硬盤、顯卡、光驅等計算機硬件上的整體研發能力能在全球排在前三位。

衆人不知道的是,國智CPU研究所經過近二年的研發,已經研發成功了比肩Intel第八代CPU的GZ-CX5,但需要65nm製程工藝的光刻機生產,避免刺激美國,也是密而不發。

前世,ASML推出65nm製程工藝的浸沒式光刻機後,Intel才推出第八代CPU、Core 2 Duo, AMD才推出比肩Core 2 Duo的Athlon X2(速龍X2)。

京城光刻機研究院光源研究所早於1999年7月就研製成功浸沒式光刻系統技術,研製的ArF激光器發射的193nm光源通過純淨水的折射,得到了波長134nm的光源,解決了業界遇到的193nm波長的世界級難題,研發成功6

5nm製程工藝的浸沒式光刻機試驗機,避免刺激美國,密而不發,沒有申請公司發明專利,等GCAEUV光刻機股份研製的EUV激光器研發成功後,再申請浸沒式激光器的公司發明專利,趕在ASML之前。

浸沒式光刻機暫時不會申請公司發明專利。

京城牌浸沒式激光器會在第一時間賣給GCA使用。

鄧國輝和錢富強從1999年8月開始立項,BSEC投資1億元,帶領光刻機光源研究所,靜下心來開始研發EUV激光器,先後投資了2.6億元,還在研究之中。

2002年1月18日,由GCA和悟空天使投資基金帶頭,分別出資5億美元和2億美元,加上INTEL、IBM、TI、AMD、摩托羅拉、Cymer、HP、臺積電和三星等25家公司,共同出資50億美元成立的GCAEUV光刻機股份有限

責任公司研製的EUV激光器已經臨近尾聲。

由於重生者的緣故,65nm製程工藝的浸沒式光刻機提前研製成功,EUV光刻機也會提前研製成功。

2002年8月,參加7月2日在布魯塞爾舉行的157nm微影技術的研討會後,ASML董事長兼總裁普拉多同臺積電的林本堅博士合作,採用“浸潤原理”,投入巨資,開始研製浸沒式激光器。

鄧國輝院士在研討會上支持林本堅博士提出的“浸潤原理”,並表示京城光刻機研究院光源研究所正在研究“浸潤原理”,這三年,鄧國輝和錢富強等先後在《Science Advances》上,發表7篇研究浸沒式激光器和浸沒式光刻

機技術的科研論文,在光刻機行業引起轟動。

半導體專家預測,二年內,浸沒式激光器和浸沒式光刻機將被研製成功。

Intel Core 2 Duo,AMD Athlon X2的研製開始加速。